掃描電化學(xué)顯微鏡（SECM）
簡要描述：掃描電化學(xué)顯微鏡（SECM）主要功能及特點(diǎn)Bsae-SECM 是一套致力于研究的掃描電化學(xué)顯微鏡，技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學(xué)Schuhmann 教授課題組。Base-SECM 標(biāo)準(zhǔn)配置的功能已然十分強(qiáng)大，能滿足絕大多數(shù)研究的需要。在這基礎(chǔ)上，用戶還可以購置不同的功能模塊，以滿足特殊的研究需要。
產(chǎn)品型號：- 廠商性質(zhì)：代理商
- 更新時間：2025-09-03
- 訪 問 量：8112
產(chǎn)品概述
| 品牌 | Metrohm/瑞士萬通 | 電位精度 | 0.3μVV |
|---|---|---|---|
| 恒電位范圍 | 30Vv | 電流范圍 | 10pA-100pAmA |
| 交流阻抗頻率范圍 | 10μHZ-1MHZHz | 電流精度 | 0.3fA |
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 50萬-100萬 |
| 儀器種類 | 電化學(xué)工作站 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,石油 |
掃描電化學(xué)顯微鏡（SECM）主要功能及特點(diǎn)
Bsae-SECM 是一套致力于研究的掃描電化學(xué)顯微鏡，技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學(xué)Schuhmann 教授課題組。Base-SECM 標(biāo)準(zhǔn)配置的功能已然十分強(qiáng)大，能滿足絕大多數(shù)研究的需要。在這基礎(chǔ)上，用戶還可以購置不同的功能模塊，以滿足特殊的研究需要。
·主要技術(shù)參數(shù)
定位系統(tǒng)：XYZ 步進(jìn)控制系統(tǒng)
動態(tài)范圍：25x25x25 mm（其他范圍可選）
最大線掃速率：10mm/s
分辨率：20nm
掃描模式
Feedback Mode 反饋模式
GC Mode 產(chǎn)生收集模式
Direct Mode 直接模式
AC-SECM 微區(qū)阻抗模式
4D 模式
Shearforce剪切力模式
探針掃描：
2D 掃描
3D 掃描
等間距掃描
快速等間距掃描
預(yù)設(shè)掃描
自編輯電化學(xué)程序掃描
電化學(xué)動力學(xué)研究
吸附/脫附現(xiàn)象和溶解過程的研究
液/液界面，液/氣界面，液/固界面以及重要的生物過程
局部腐蝕過程觀測
催化劑活性評價(jià)
傳感器表面活性成像
局部阻抗分析
生物膜酶活性研究
微納米尺度的金屬顆粒沉積(恒電流或無電沉積)
在水或有機(jī)溶液中材料表面上導(dǎo)電聚合物局部沉積
電化學(xué)刻蝕
掃描電化學(xué)顯微鏡（SECM）應(yīng)用領(lǐng)域
★ 電化學(xué)動力學(xué)研究
★ 吸附/脫附現(xiàn)象和溶解過程的研究
★ 液/液界面，液/氣界面，液/固界面以及重要的生物過程
★ 局部腐蝕過程觀測
★ 催化劑活性評價(jià)
★ 傳感器表面活性成像
★ 局部阻抗分析
★ 生物膜酶活性研究
★ 微納米尺度的金屬顆粒沉積(恒電流或無電沉積)
★ 在水或有機(jī)溶液中材料表面上導(dǎo)電聚合物局部沉積
★ 電化學(xué)刻蝕
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